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潔凈環境是為生產工藝服務的，ICU潔凈室設計須滿足生產工藝的環境要求，這是理所當然的。因此，在潔凈室設計時生產工藝對環境參數的要求應該實事求是，其面積、層高，溫度、濕度，潔凈度等應該該高則高，該低則低，并非越高越好。在不影響生產工藝正常運行的前提下盡可能地降低參數要求，控制凈化面積，縮小高凈化級別潔凈區的范圍，嚴格控制100級和更高級別單向流潔凈區的面積。
在生產工藝平面區劃時盡可能把相同級別的潔凈房間布置在一起，把潔凈度要求高的工序設置在上風側，把產生粉灰、有毒、有害、易燃、易爆廢氣的工藝設備、容器盡可能放在潔凈區外，若必須放在潔凈區內時應盡量采取密閉措施以減少粉塵和廢氣的排放量。一般情況下，凈化空調系統的能耗比一般空調系統的能耗大的多。其原因是兩者之間的負荷特點不同。就潔凈室，尤其是半導體工業潔凈室而言，其負荷特點是：由于排風量大造成新風量大，故新風處理所需冷量消耗大；送風量大，輸送動力消耗大，風機管道溫升高；生產設備的發熱量大，消耗冷量大。
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